近日，珠海光库科技股份有限公司正式宣布，依托工艺升级与产能优化，德国RAITHEBL5150Plus高精度电子束光刻系统对外全面开放，面向科研院所与产业客户提供一站式EBL微纳加工代工服务，以顶尖设备与成熟工艺，助力光通信、光子集成、微纳器件领域研发创新与产业化验证。
顶尖设备加持纳米级高精度加工能力
光库科技采用德国原装RAITHEBL5150Plus电子束光刻系统，搭配PEC临近效应自动补正模块，图形精度与一致性行业领先，核心指标如下：
极限分辨率：25nm
加速电压：50kV/100kV双模式
套刻精度：≤±10nm
场拼接精度：≤±40nm
支持衬底：碎片、4寸/6寸晶圆
配套软件：GENISYSBeamer/Tracer专业图形优化系统
全工艺覆盖满足多元化微纳加工需求
光刻胶工艺
正胶工艺：800nm以下膜厚，高精度制备纳米光栅、光子晶体、超构表面等超精细结构；
负胶工艺：2μm膜厚适配波导、微流控、MEMS；5μm膜厚支持高深宽比微光学元件、光栅。
兼容衬底类型
可适配InP、GaAs、LiNbO₃、Si等主流半导体与光电材料，覆盖光通信激光器、铌酸锂光子芯片、硅光集成芯片等领域。
四大典型应用支撑高端光电器件核心工艺
1、DFB激光器λ/4相移光栅：满足单纵模激光器窄线宽、低阈值工艺要求，支撑光通信与传感升级；
2、光子晶体微腔/结构：适配光子晶体激光器、滤波器件、量子光电器件前沿研发；
3、模斑转换器（SSC）：实现硅光/铌酸锂光子芯片与光纤高效耦合；
4、定制化微纳结构：支持超构表面、微流控、传感探针等复杂非规则图形加工。
一站式代工服务高效降本增效
●灵活承接：支持科研小批量试样、产业中试验证；
●全流程支持：提供涂胶、前/后处理、临近效应修正等配套工艺；
●质量保障：交付SEM检测报告，严控精度与一致性；
●严格保密：签署保密协议，保护客户知识产权；
●快速响应：按需提供工艺评估、精准报价与高效排期。
关于光库科技
珠海光库科技专注光通信器件与光子集成技术，具备芯片设计、微纳加工、封装测试全链条能力，为全球客户提供高性能光电器件解决方案。本次EBL代工服务开放，进一步完善微纳光电子服务链条，为行业创新注入新动能。
光库科技诚邀科研与产业伙伴携手，共推微纳光电子器件技术突破与产业化落地！
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