4月23日，国内光电子与半导体领域极具影响力的行业盛会——2026九峰山论坛在武汉光谷科技会展中心启幕。本届论坛以“新赛道、新技术、新产品、新市场”为主题，汇聚全产业链顶尖力量，共探产业创新路径。
九维光子设双展位：B3-3B06（主展位）、B1-1B19，携相变OCS全光交换方案、相变激光直写设备两大核心技术成果重磅亮相。
现场直击：展台人气高涨，交流氛围浓厚
今天上午，武汉市委副书记、市长熊征宇一行莅临九维光子展位参观指导，九维光子CEO王涛携团队热情接待，并围绕本次展出的核心产品、技术创新及市场应用情况，向熊市长一行作了详细介绍。
展会期间，九维光子展台现场交流热烈，来自AI算力、光互联、半导体制造等领域的专家与产业链伙伴，围绕全光交换网络在AI算力集群中的应用、微纳加工设备国产替代路径等议题展开深入探讨。开展即收获多项合作意向。
01核心技术相变OCS全光交换方案
随着AI算力集群向万卡、十万卡规模扩展，传统电交换架构依赖“光-电-光”转换，面临功耗、时延、带宽三重瓶颈。九维光子自研的相变OCS全光交换方案，基于非易失性相变材料，实现纳秒级高速光开关切换。该方案在物理层直接重构光路，无需光电转换即可完成信号直通，具备低功耗、低时延、高带宽三大优势，可为下一代数据中心与AI算力网络提供高性能全光交换解决方案，推动全光交换技术国产化进程。
02核心技术相变激光直写设备
纳米光刻领域长期依赖进口设备，是产业自主化的重要瓶颈之一。九维光子推出相变激光直写系列设备，采用自研高精度光学系统与相变材料加工技术，实现从纳米到微米级的跨尺度图形化加工，可应用于半导体光刻、光学元件光刻、掩模版光刻等场景，为国内提供国产化微纳加工方案。
持续深耕，共促产业生态
九维光子扎根武汉光谷，聚焦新一代相变光子技术在AI智算中心与纳米光刻领域的应用，坚持核心自主可控。此次亮相九峰山论坛，既是阶段性成果展示，也是与行业伙伴深入交流的契机。公司未来将持续推进技术创新，携手产业链上下游，助力我国光子产业高质量发展。
展会持续至4月25日，欢迎各界嘉宾莅临B3-B06（主展位）、B1-B19展位，现场交流探讨。
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