随着全球半导体制造向更高制程节点演进，高性能蚀刻气体的市场需求持续增长。六氟丁二烯（C₄F₆）作为新一代含氟蚀刻气体，凭借其优异的蚀刻选择性和显著降低的全球变暖潜能值（GWP），在3DNAND、DRA...
