7月8日，拓荆科技召开业绩说明会，董事长吕光泉现场对外披露公司量产进度、盈利走势、市场份额及中长期技术布局相关内容，科创板日报、电子工程专辑同步完整刊发现场采访实录。
吕光泉表示，公司旗下先进制程薄膜沉积设备已完成客户工艺验证，正式进入规模化量产阶段。盈利层面，2026年一季度公司毛利率实现回升，结合产品结构优化、规模量产摊薄成本等因素，预计后续整体毛利率将保持平稳运行。
技术与产品规划方面，企业将持续围绕先进逻辑、存储制程迭代需求，拓宽PECVD、ALD等薄膜沉积设备工艺适配范围，同步加大三维集成赛道投入，推进晶圆键合相关设备研发与客户端落地。
市场格局数据同步对外披露，目前公司产品已完整覆盖PECVD、ALD两大主流薄膜沉积设备品类，相关产品合计占据中国大陆薄膜沉积设备约50%市场份额，对应可触达国内市场规模约46.5亿美元。2025年公司全年营业收入65.19亿元，该营收规模仅占自身可对接国内市场体量的20%左右，行业成长空间仍较为充足。
公开经营数据显示，拓荆科技核心设备已批量导入国内主流存储、逻辑晶圆制造产线，PECVD为营收核心支柱，ALD、三维集成键合设备为第二增长曲线。
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